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离子束溅射系统与离子铣类似，就是使用气体原子离子化之后对靶材表面进行轰击，是半导体工艺中PVD制备办法里面最重要的一种。主要用于制备光学薄膜与半导体薄膜等。当我们使用IBE功能的时候，只需要把离子枪装在样品的对面，直接轰击样品表面，以完成样品的清洁与刻蚀。当与电子束合在一起的时候称之为IBAD，即离子辅助镀膜，可以增加镀膜材料附着在样品表面的能量，可制备高品质高密度的薄膜。
我们产品的主要特点：
- 可以沉积具有极高质量和极高重复性的大规模薄膜
- 利用离子源产生指向待溅射目标的聚焦离子束。由于目标材料是通过动量传递而不是化学或热过程烧蚀的，所以任何材料都可以沉积在衬底上（无论是导电的，还是绝缘的）
- 靶材夹持器被设计成具有多个面，允许通过旋转来沉积不同的目标材料
- 如果配置离子束辅助溅射源，则实现衬底材料与沉积膜之间逐渐过渡，并且沉积膜内应力较小
- 配备掩模系统，将实现在薄膜上形成独特的沉积图案
- 通过使用FBBEAR控制软件使过程自动化，实现了精确控制和高稳定性。FBBEAR控制软件提供完整的数据记录、精确的参数调整，使用户操作简单，实验重复性可靠
应用：
IBSD可生长的薄膜材料包括：自旋阀/AMR/GMR材料、磁隧道结、介质干涉涂层、高k材料、形状记忆合金、超导材料等。
