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PhableR全息光刻系统
仪器价格：￥电议
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仪器型号：PhableR 100
仪器品牌：PhableR
仪器产地：海外瑞士
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简介：
PhableR全息光刻系统是一款纳米级高分辨图形化设备。设备基于PHABLE光刻技术，采用传统mask-aligner紫外光刻机操作方式，在光刻胶上曝光大面积纳米图形。设备有双工作模式：全息光刻模式，分辨率不受到衍射限制，可以曝光周期性纳米图形；掩膜对准光刻模式，可作为传统掩膜对准式曝光系统。
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特点及优势：
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PhableR革新性紫外光刻机/全息光刻系统 |
指标：
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光源 |
UV light (375nm) |
DUV light (266nm) |
DUV light (193nm) |
|
全息光刻模式 分辨率/周期范围 |
125nm / P250-P3000nm |
75nm / P150-P2500nm |
50nm / P125-P2000nm |
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掩膜对准光刻模式 |
Yes |
No |
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操作方式 |
手动 or 自动 |
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参数设置 |
Windows |
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曝光面积 |
最大100mm、150mm、200mm基板 |
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应用：
- 图形化蓝宝石衬底（PSS）
- DFB布拉格光栅
- 减反层图形
- 显示滤光片Color Filter
- 线栅偏振Wire Grid Polarizer（WGP）
- 光子晶体
- 磁性纳米结构
- 太阳能光伏
- 生物传感器
- AR、VR技术
Phable紫外光刻机应用实例：
Phable紫外光刻机在图形化蓝宝石衬底（PSS）中的应用
名词解释：图形化蓝宝石衬底Patterned Sapphire Substrates (PSS)
Eulitha公司的PHABLE紫外光刻机是在广泛用于LED生产中的蓝宝石衬底上曝光图形的理解工具。图形化蓝宝石衬底有利于高质量的半导体材料层的 生长，从而得到高性能的LED器件。需要的结构是典型的柱或孔的阵列，一般呈六边形排布，周期为1－3μm（PSS），当制作纳米级图形化蓝宝石衬底 （NPSS——Nano-Patterned Sapphire Substrates）时，周期一般是几百纳米，更精细的结构带来更大的出光效率。大多数蓝宝石样片表面都不平整，使用传统光刻方法，以可接受的成本，很难获得很好的曝光图形，而PHABLE紫外光刻机在蓝宝石衬底上能曝光出这些高分辨的结构，且具有很好的均匀性和重复性。PHABLE紫外光刻机可在四英寸硅片上一次曝光出均匀图形，生产效率非常高。同时，我们可以对涂得很厚的光刻胶进行曝光，以利于下一步轻松地进行蓝宝石衬底的刻蚀。
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| 用PhableR 100高分辨紫外光刻机在 2" 蓝宝石衬底上曝光出的高分辨图形 | 在光刻胶上曝光出的周期结构 |
