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北京汇德信科技有限公司自1999年成立以来，始终秉承“诚信、专业、创新”的宗旨，将国际上先进的纳米科学技术设备引进到国内。产品覆盖了微纳米制造、检测、分析等相关领域，并已经被国内众多科研院所和大学使用，并得到用户一致好评和认可。
我们经过多年的技术积累，并与国内用户、国外厂商紧密合作，共同研发具有独立知识产权的高科技含量的科研仪器设备。从“代理”产品走向 “研发”产品，迈出了具有重大意义的一步。
我们的研发团队成员都是从事多年相关领域工作的专业人士，具有丰富的系统设计、安装、维修经验。我们服务于各大高校、科研院所和部分工业用户，产品涵盖薄膜生长设备和材料测试系统，可为您提供优质的设备定制、全面的技术培训及完善的售后服务。
目前我们的用户多分布在高校和科研院所，如清华大学、北京邮电大学、中国科技大学、南方科技大学、华南师范大学、航天5院等单位。
您的需求是我们的目标，您的意见是我们的动力，北京汇德信期待与您携手合作。
我们提供的服务：
真空设备定制：
脉冲激光沉积系统定制、磁控溅射系统定制、二次电子发射系数测试系统……
其他：
真空设备维护、真空设备升级改造、样品台改造、机械加工……
脉冲激光沉积设备（PLD）定制
我们经过多年的技术积累，充分研究了国内外PLD设备的优缺点，开发出了性能优异的PLD系统。
我们可以提供单腔室简易PLD系统和双腔室复杂PLD系统。
图1.单腔室简易型脉冲激光沉积系统(PLD)
图2. 双腔室脉冲激光沉积系统(PLD)
设计特点如下：
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设计灵活新颖，可根据用户需求定制系统；
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自主设计的激光加热系统，最高加热温度1400°C；
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靶台具有摆动功能，可增加靶材利用率；
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可配备高压RHEED，用于监测薄膜的生长过程；
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升级空间大，集成灵活度高，可加配离子源、溅射源等；
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可与其他真空设备对接；
磁控溅射靶枪定制
1.规格参数
| 固定法兰 | CF100 |
| 真空内长度 | 283 mm（可定制） |
| 真空内直径 | 88 mm |
| 水冷要求 | 0.5 升/分钟 |
| 靶材种类 | 金属、合金、半导体、绝缘体 |
| 靶材直径 | 2" (50 mm) |
| 靶材厚度 | 0.5-6 mm（磁性材料≤3mm） |
| 磁铁 | Sm2Co7 |
| 电源 | DC或RF |
| 挡板控制 | 手动或电机控制 |
| 烘烤温度 | 250°C |
2.特点
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可以集成到多种国产或进口磁控溅射设备上，靶枪的真空内长度可以定制；
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安装法兰上带有独立的溅射气体接口；
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采用独特的气体导流罩将溅射气体引入到靶面，可以在靶材附近实现更高的气压，同时也能降低腔室的气压；
3.用途
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高校科研院所磁控溅射薄膜材料的研究与制备；
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本科生或研究生的仪器教学；
二次电子发射系数测试系统定制
二次电子发射系数测试设备（SEY）用于金属或介质材料二次电子发射系数的测试。由于涉及到微弱电信号的探测和捕捉，该设备结构复杂，测试的灵敏度和重复性要求较高，目前国外只有少数几家公司可以研制并生产。为打破垄断，北京汇德信科技有限公司研制开发了具有自主知识产权，专用于导体和介质材料二次电子发射系数分析测试的整套解决方案。
LEO 二次电子发射系数测试系统(SEY)
设计特点如下：
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栅网的透过率大于80%，收集效率高；
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采用三层栅网及半球型收集器，可测试材料的二次电子发射系数及二次电子能谱；
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一次电子枪的能量范围从50 eV到5 KeV，并可扩展到更高能量；
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具备脉冲信号测量功能，可测试介质材料的二次电子系数；
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样品台可倾斜，可测试不同入射角度下的二次电子系数；
